頭發(fā)曲直看DNA便知
最新發(fā)現(xiàn)與創(chuàng)新
通過DNA就能知道一個沒見過的人是直發(fā)還是自來卷!最近科學家的一項研究揭開了人類頭發(fā)曲直的秘密。來自中科院北京基因組研究所等單位的國內(nèi)外研究人員,合作進行了一項基于近3萬人樣本的人類頭發(fā)曲直的全基因組關(guān)聯(lián)研究。相關(guān)研究論文發(fā)表在21日的《人類分子遺傳學》雜志上。
人類頭發(fā)形狀是一種高度遺傳的表型。在這個項目中,科學家通過問卷和專家評估結(jié)合的方式,精確量化了近3萬人的頭發(fā)曲直狀況,并分析了800多萬個遺傳位點和頭發(fā)曲直的關(guān)系。該研究發(fā)現(xiàn)8個與人類頭發(fā)曲直相關(guān)的新遺傳位點,并驗證了前人已報道的多個遺傳位點。
此發(fā)現(xiàn)提高了對人類頭發(fā)形狀變異的遺傳認識,有助于進一步揭開外部可見特征表達變異的分子基礎(chǔ)。研究論文第一作者、中科院北京基因組研究所劉凡研究員指出,“數(shù)據(jù)表明亞洲人群頭發(fā)曲直的遺傳結(jié)構(gòu)不同于世界其他國家,當前發(fā)現(xiàn)的卷發(fā)相關(guān)等位基因在亞洲人群中起很小的作用甚至無作用,或者其作用完全被亞洲特異的EDAR基因變異的效應所掩蓋。”
劉凡介紹說,基于新發(fā)現(xiàn)位點建立的人類頭發(fā)預測模型有更高的預測準確性,在法醫(yī)學和美容領(lǐng)域有潛在的應用價值。分子表型刻畫是近年來法醫(yī)學的新興領(lǐng)域,其目的是通過對檢材DNA的深度挖掘,刻畫檢材供者的外貌特征,從而縮小犯罪嫌疑人的查找范圍,為偵查提供線索。該項研究發(fā)現(xiàn)的頭發(fā)曲直遺傳位點有助于人類外貌表型刻畫的完善,進一步推進了分子表型刻畫領(lǐng)域的發(fā)展。
?
相關(guān)鏈接:
深讀| 尖峰嶺胡椒被評估為極危種 利用價值仍待研究?
·凡注明來源為“??诰W(wǎng)”的所有文字、圖片、音視頻、美術(shù)設計等作品,版權(quán)均屬海口網(wǎng)所有。未經(jīng)本網(wǎng)書面授權(quán),不得進行一切形式的下載、轉(zhuǎn)載或建立鏡像。
·凡注明為其它來源的信息,均轉(zhuǎn)載自其它媒體,轉(zhuǎn)載目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負責。
網(wǎng)絡內(nèi)容從業(yè)人員違法違規(guī)行為舉報郵箱:jb66822333@126.com